Технология Электронно-лучевого испарения с применением ионного ассистирования (IAD)

ООО «ИнтерНаноТехнологии» применяет метод электронно-лучевого испарения в сочетании с ионным ассистированием (Ion Assisted Deposition, IAD) для формирования высококачественных оптических покрытий. Данный метод базируется на одновременном использовании электронной пушки, испаряющей материал из тигля, и высокочастотного ионно-лучевого источника ассистирования.

Ключевая роль ионного источника заключается в двустадийной обработке поверхности: на этапе подготовки он активирует подложку, очищая её на атомарном уровне и повышая адгезию, а в процессе роста пленки модифицирует её структуру, подавляя столбчатый рост и обеспечивая максимальную плотность упаковки материала . Дополнительно в нашем распоряжении имеется технология резистивного испарения для задач, где требуется нанесение материалов с низкой температурой сублимации.

Преимущества метода ЭЛИ с IAD:

• Высокая чистота покрытий и исключительная адгезия к подложке;
• Повышенная лазерная прочность (LIDT) за счет плотной структуры пленки;
• Высокая стойкость к внешним климатическим и механическим воздействиям;
• Универсальность: работа с широким спектром материалов (SiO₂, Al₂O₃, HfO₂, ZrO₂, TiO₂, ZnS, YbF₃, Ta₂O₅, Ge, Si и др.);
• Возможность нанесения покрытий для диапазонов от УФ до ИК;
• Высокая скорость осаждения, обеспечивающая эффективность производства.

Для реализации данной технологии мы используем вакуумные установки «ORTUS 700» и «ORTUS 1100», специально спроектированные для изготовления многослойных интерференционных покрытий. Оборудование позволяет производить лазерные зеркала, просветляющие окна, узкополосные фильтры, светоделители и другие оптические элементы для ультрафиолетового, видимого и инфракрасного диапазонов спектра.