Технология Ионно-лучевого распыления (IBS)

Ионно-лучевое распыление (Ion Beam Sputtering, IBS) — наиболее прецизионный метод нанесения тонкопленочных покрытий, применяемый в ООО «ИнтерНаноТехнологии» для решения задач, требующих высочайшей точности и стабильности характеристик. Технология базируется на использовании высокочастотных ионно-лучевых источников распыления, генерирующих стабильный и управляемый пучок ионов, направленный на мишень.

Ключевое отличие метода заключается в комплексной обработке поверхности с помощью отдельного высокочастотного ионно-лучевого источника очистки и ассистирования. Это позволяет не только активировать подложку перед нанесением, но и модифицировать структуру растущей пленки для достижения максимальной адгезии и плотности, сравнимой с объемным материалом. Для исключения дефектов и обеспечения равномерности покрытия на диэлектрических подложках применяются высокочастотные нейтрализаторы заряда, эффективно подавляющие накопление статического электричества.

Преимущества ионно-лучевой технологии:

• Высочайшая чистота и стабильность: Применение криогенных откачных средств обеспечивает ультравысокий вакуум, а шлюзовая загрузка с роботизированной транспортировкой исключает загрязнения;
• Максимальная лазерная прочность (LIDT): Плотная структура пленки без микродефектов обеспечивает рекордные пороги оптического пробоя; 
• Прецизионный контроль толщины: Система широкополосного и одноволнового оптического контроля по пролетающему свидетелю позволяет проводить сложнейшие процессы (более 100 слоев) в полностью автоматическом режиме, существенно увеличивая выход годных изделий;
• Малая шероховатость: Получение поверхностей с шероховатостью не более 3 нм.

Технология реализована на вакуумных установках «LIDIZ» и «ASPIRA», предназначенных для изготовления лазерных зеркал высокой мощности, сложнейших узкополосных и полосовых фильтров, поляризаторов, светоделителей и других оптических элементов для ультрафиолетового, видимого и ближнего инфракрасного диапазонов.