Участок фотолитографии

ООО «ИнтерНаноТехнологии» располагает собственным фотолитографическим участком, оснащенным современным оборудованием для формирования сложных микроструктур на поверхности оптических компонентов. Наличие данного направления позволяет нам реализовывать полный цикл производства многозонных фильтров, мультиспектральных датчиков и других элементов, требующих прецизионного структурирования покрытий на поверхности оптического элемента.

Фотолитография — это метод создания заданного топологического рисунка на подложке с использованием светочувствительного материала (фоторезиста), последующего экспонирования через фотошаблон и химического травления. Технология обеспечивает высокую воспроизводимость геометрических параметров и позволяет формировать на одной подложке множество оптических зон с индивидуальными спектральными характеристиками.

Технические возможности:

• Точность расположения зон и их геометрических размеров: ±5 мкм;
• Возможность создания многослойных структур с комбинацией различных интерференционных покрытий;
• Работа с подложками из стекла, кремния, германия и других материалов;
• Реализация индивидуальных топологий под задачи заказчика.

Области применения:

• Многозонные фильтры для мультиспектральных и гиперспектральных датчиков;
• Оптические элементы для систем дистанционного зондирования Земли;
• Матричные фотоприемники с индивидуальной фильтрацией зон;
• Микрооптические системы для научного и медицинского приборостроения.

Наличие собственного фотолитографического участка и команда опытных инженеров позволяют нам контролировать качество на всех этапах производства, сокращать сроки разработки и обеспечивать высокую точность изготовления компонентов для самых требовательных применений.